Journal de Physique IV

LOW-TEMPERATURE CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION OF SILICON NITRIDE

H. KANOH, O. SUGIURA, S. FUJIOKA, Y. ARAMAKI, T. HATTORI et M. MATSUMURA

J. Phys. IV France, 02 C2 (1991) C2-831-C2-837

DOI: 10.1051/jp4:1991298

H. KANOH

O. SUGIURA

S. FUJIOKA

Y. ARAMAKI

T. HATTORI

M. MATSUMURA

articles ayant parmi leurs auteurs TOUS les auteurs sélectionnés (ET)

articles ayant parmi leurs auteurs AU MOINS un auteur identique à ceux sélectionnés (OU)