Journal de Physique IV

SURFACE MECHANISMS IN THE UVCVD OF SiO₂ FILMS

C. LICOPPE, C. MERIADEC, J. FLICSTEIN, Y.I. NISSIM, E. PETIT et J.M. MOISON

J. Phys. IV France, 02 C2 (1991) C2-357-C2-364

DOI: 10.1051/jp4:1991243

C. LICOPPE

C. MERIADEC

J. FLICSTEIN

Y.I. NISSIM

E. PETIT

J.M. MOISON

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