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Propriétés structurales et électrochimiques de couches minces de V₂O₅ élaborées par dépôt chimique de couches atomiques en phase vapeur (ALCVD)

A. Mantoux, J.-C. Badot, N. Baffier, J. Farcy, J.-P. Pereira-Ramos, D. Lincot et H. Groult

J. Phys. IV France, 12 2 (2002) 111-119

DOI: https://doi.org/10.1051/jp420020018

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