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Chemical vapor deposition of sp2-boron nitride on Si(111) substrates from triethylboron and ammonia: Effect of surface treatments
Laurent Souqui, Henrik Pedersen and Hans Högberg Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 38(4) (2020) https://doi.org/10.1116/1.5145287
High-speed deposition of yttria stabilized zirconia by MOCVD