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Infrared Spectroscopic Study of Decomposition of Ti(N(CH[sub 3])[sub 2])[sub 4]

Joost P. A. M. Driessen, Joop Schoonman and Klavs F. Jensen
Journal of The Electrochemical Society 148 (3) G178 (2001)
https://doi.org/10.1149/1.1350687

Preparation of thin copper films from the vapour phase of volatile copper(I) and copper(II) derivatives by the CVD method

Vladimir N Vertoprakhov and Sergey A Krupoder
Russian Chemical Reviews 69 (12) 1057 (2000)
https://doi.org/10.1070/RC2000v069n12ABEH000572

Gas-phase chemistry in up-scaled plasma enhanced metal-organic chemical-vapor deposition of TiN and Ti(C, N) on tool steel

J. P. A. M. Driessen, A. D. Kuypers and J. Schoonman
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 18 (4) 1971 (2000)
https://doi.org/10.1116/1.582456

A mass-spectroscopical study of the decomposition of Ti(NMe2)4 in a mixed Ar–H2–N2 pulsed d.c. plasma

J.P.A.M. Driessen, A.D. Kuypers and J. Schoonman
Surface and Coatings Technology 110 (3) 173 (1998)
https://doi.org/10.1016/S0257-8972(98)00696-3

Mécanisme de décomposition des composés M(NEt) (M = V, Cr) lors de leur utilisation comme mono-source pour la croissance de films M-C-N par MOCVD

P BONNEFOND, R FEURER, F MAURY, et al.
Annales de Chimie Science des Matériaux 23 (5-6) 667 (1998)
https://doi.org/10.1016/S0151-9107(99)80015-4

Effects of intermediate zinc pulses on properties of TiN and NbN films deposited by atomic layer epitaxy

Mikko Ritala, Timo Asikainen, Markku Leskelä, et al.
Applied Surface Science 120 (3-4) 199 (1997)
https://doi.org/10.1016/S0169-4332(97)00387-5