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A study by In Situ FTIR Spectroscopy of the Decomposition of Precursors for the MOCVD of High Temperature Superconductors

A.Y. Kovalgin, F. Chabert-Rocabois, M.L. Hitchman, S.H. Shamlian, S.E. Alexandrov

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DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:1995542

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Citations de cet article :

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Svetlana Martynova, Vladislav Krisyuk, Aleksandr Sukhikh and Enrico Benassi
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A Double-Sided Oxide Buffer Architecture to Facilitate REBCO Growth for High Performance

Jithin sai Sandra, Venkata Manoj Are, Susancy Sherin, Vamsi Yerraguravagari, Bhabesh Sarangi, Abhin Prabhakaran and Venkat Selvamanickam
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Remote AP‐PECVD of Silicon Dioxide Films from Hexamethyldisiloxane (HMDSO)

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Real-time, in situ film thickness metrology in a 10 Torr W chemical vapor deposition process using an acoustic sensor

L. Henn-Lecordier, J. N. Kidder, G. W. Rubloff, C. A. Gogol and A. Wajid
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