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Engineering of molecular architectures of β-diketonate precursors toward new advanced materials
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MOCVD of Lanthanum Oxides from La(tmhd)3 and La(tmod)3 Precursors: A Thermal and Kinetic Investigation
C. Bedoya, G. G. Condorelli, S. T. Finocchiaro, A. Di Mauro, D. Atanasio, I. L. Fragalà, L. Cattaneo and S. Carella Chemical Vapor Deposition 12(1) 46 (2006) https://doi.org/10.1002/cvde.200506391
Mechanism of copper chemical vapor deposition from copper dipivaloylmethanate in hydrogen