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Article cité :

Diamond Deposition Using a Grid Filament

D.M. Li, T. Mäntylä, J. Levoska

J. Phys. IV France, 05 C5 (1995) C5-989-C5-995

DOI: https://doi.org/10.1051/jphyscol:19955116

PDF (1.503 MB)

Citations de cet article :

Growth Rate and Electrochemical Properties of Boron-Doped Diamond Films Prepared by Hot-Filament Chemical Vapor Deposition Methods

Hiroshi Nagasaka, Yoshikazu Teranishi, Yuriko Kondo, Takeshi Miyamoto and Tetsuhide Shimizu
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 14 53 (2016)
https://doi.org/10.1380/ejssnt.2016.53