Modeling of Mass Transport and Gas Kinetics of the Reactive Sputtering Process
J. Phys. IV France, 05 C5 (1995) C5-45-C5-54
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Modeling reactive magnetron sputtering: a survey of different modeling approaches
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Macroscopic Thin Film Deposition Model for the Two-Reactive-Gas Sputtering Process
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Instabilities of the reactive sputtering process involving one metallic target and two reactive gases
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