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Article cité :

Investigation of the effects of Ar plasma etching in Si surface by photoacoustic method

D.M. Todorović, M. Smiljanić, M. Sarajlić, D. Vasiljević-Radović, D. Randjelović

J. Phys. IV France, 125 (2005) 451-453

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2005125106

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Citations de cet article :

Silicon wafer wettability and aging behaviors: Impact on gold thin-film morphology

X.M. Yang, Z.W. Zhong, E.M. Diallo, Z.H. Wang and W.S. Yue
Materials Science in Semiconductor Processing 26 25 (2014)
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Numerical analysis of absorption and transmission photoacoustic spectra of silicon samples with differently treated surfaces

M. Maliński and Ł. Chrobak
Opto-Electronics Review 19 (1) 46 (2011)
https://doi.org/10.2478/s11772-010-0064-1