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Article cité :

Effect of magnetic field configuration on the properties of thin films sputter deposited from a dc magnetron TiNi target

V. Martynov, A.D. Johnson, V. Gupta

J. Phys. IV France, 112 (2003) 845-848

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20031013

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Citations de cet article :

Compositional uniformity in sputter-deposited NiTi shape memory alloy thin films

K.P. Mohanchandra, Ken K. Ho and Greg P. Carman
Materials Letters 62 (20) 3481 (2008)
https://doi.org/10.1016/j.matlet.2008.03.028

Shape memory effect in thin films of a Cu–Al–Ni alloy

F.C. Lovey, A.M. Condó, J. Guimpel and M.J. Yacamán
Materials Science and Engineering: A 481-482 426 (2008)
https://doi.org/10.1016/j.msea.2007.01.175

Binary and ternary NiTi-based shape memory films deposited by simultaneous sputter deposition from elemental targets

S. Sanjabi, Y. Z. Cao, S. K. Sadrnezhaad and Z. H. Barber
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 23 (5) 1425 (2005)
https://doi.org/10.1116/1.2011404