Molecular beam mass spectrometry analysis of gaseous species responsible for diamond deposition in microwave plasmas
J. Phys. IV France, 12 4 (2002) 75-84
Article cité par
La fonctionnalité Article cité par… liste les citations d'un article. Ces citations proviennent de la base de données des articles de EDP Sciences, ainsi que des bases de données d'autres éditeurs participant au programme CrossRef Cited-by Linking Program. Vous pouvez définir une alerte courriel pour être prévenu de la parution d'un nouvel article citant " cet article (voir sur la page du résumé de l'article le menu à droite).
Article cité :
Citations de cet article :
An online mass-based gas analyser for simultaneous determination of H2, CH4, CO, N2and CO2: an automated sensor for process monitoring in industry
M Tabrizchi, E Mirmomtaz and A A EnsafiMeasurement Science and Technology 23 (10) 105106 (2012)
https://doi.org/10.1088/0957-0233/23/10/105106
Diagnostics in dusty C–H–O plasmas with diamond and graphitic nanoparticle generation
T Gries, L Vandenbulcke, J N Rouzaud and S de PersisPlasma Sources Science and Technology 19 (2) 025015 (2010)
https://doi.org/10.1088/0963-0252/19/2/025015
Diagnostics and modeling of CH[sub 4]–CO[sub 2] plasmas for nanosmooth diamond deposition: Comparison to experimental data
T. Gries, L. Vandenbulcke, S. de Persis, O. Aubry and J. L. DelfauJournal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 27 (5) 2309 (2009)
https://doi.org/10.1116/1.3231447
Emission Spectroscopy, Mass Spectrometry, and Kinetics in CH[sub 4]–CO[sub 2] Plasmas Used for Diamond Deposition
C. Met, S. de Persis, L. Vandenbulcke, et al.Journal of The Electrochemical Society 153 (7) F127 (2006)
https://doi.org/10.1149/1.2197650
Precursors of diamond films analysed by molecular beam mass spectrometry of microwave plasmas
O Aubry, J.-L Delfau, C Met, L Vandenbulcke and C VovelleDiamond and Related Materials 13 (1) 116 (2004)
https://doi.org/10.1016/j.diamond.2003.09.009