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Article cité :

Microwave plasma enhanced CVD of aluminum oxide films: Influence of the deposition parameter on the films characteristics

H. Hidalgo, P. Tristant, A. Denoirjean, J. Desmaison

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-723-Pr3-730

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001391

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Citations de cet article :

Étude statistique de la fissuration des revêtements et modélisation du comportement mécanique de films déposés sur des substrats Inox 316L

Françoise Hugot and Éric Abgrall
Mécanique & Industries 9 (3) 177 (2008)
https://doi.org/10.1051/meca:2008023

Influence of Surface Physicochemistry and Morphology of TA6V Substrates on the Mechanical Resistance of Thin Layers of Alumina

E. Abgrall, Jean Desmaison, T. Haure, P. Jonnard and C. Tixier
Key Engineering Materials 264-268 545 (2004)
https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/KEM.264-268.545

Physico-chemistry and morphology of silicon surface during the first stage of alumina deposition

P. Jonnard, J. Desmaison, H. Hidalgo, et al.
Applied Surface Science 212-213 674 (2003)
https://doi.org/10.1016/S0169-4332(03)00021-7