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Article cité :

Chemical vapour deposition of copper using copper(II) alkoxides

R. Becker, J. Weiß, A. Devi, R.A. Fischer

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-569-Pr3-575

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001372

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Citations de cet article :

CVD of copper and copper oxide thin films via the in situ reduction of copper(ii) nitrate—a route to conformal superhydrophobic coatings

Colin R. Crick and Ivan P. Parkin
Journal of Materials Chemistry 21 (38) 14712 (2011)
https://doi.org/10.1039/c1jm11955a

Organometallic Access to Intermetallic θ‐CuE2 (E = Al, Ga) and Cu1–xAlx Phases

Mirza Cokoja, Balaji R. Jagirdar, Harish Parala, Alexander Birkner and Roland A. Fischer
European Journal of Inorganic Chemistry 2008 (21) 3330 (2008)
https://doi.org/10.1002/ejic.200800046

A Study on the Metal Organic CVD of Pure Copper Films from Low Cost Copper(II) Dialkylamino‐2‐propoxides: Tuning the Thermal Properties of the Precursor by Small Variations of the Ligand

R. Becker, A. Devi, J. Weiß, U. Weckenmann, M. Winter, C. Kiener, H.‐W. Becker and R.A. Fischer
Chemical Vapor Deposition 9 (3) 149 (2003)
https://doi.org/10.1002/cvde.200306236