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Article cité :

Silicon oxide nanolayers for soft X-ray optics produced by plasma enhanced CVD

F. Hamelmann, A. Aschentrup, J. Schmalhorst, U. Kleineberg, U. Heinzmann, K. Dittmar, P. Jutzi

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-431-Pr3-436

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001354

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Citations de cet article :

Plasma-assisted deposition of thin carbon films from methane and the influence of the plasma parameters and additional gases

F. Hamelmann, A. Aschentrup, A. Brechling, et al.
Vacuum 76 (2-3) 139 (2004)
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2004.07.074

Plasma-assisted deposition of thin silicon oxide films in a remote PECVD reactor and characterization of films produced under different conditions

F Hamelmann, A Aschentrup, A Brechling, et al.
Vacuum 75 (4) 307 (2004)
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2004.03.012

Thin molybdenum oxide films produced by molybdenum pentacarbonyl 1-methylbutylisonitrile with plasma-assisted chemical vapor deposition

F. Hamelmann, A. Brechling, A. Aschentrup, et al.
Thin Solid Films 446 (2) 167 (2004)
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.045