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Article cité :

Growth of Ru and RuO₂ films by metal-organic chemical vapour deposition

F. Fröhlich, D. Machajdik, V. Cambel, J. Fedor, A. Pisch, J. Lindner

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Citations de cet article :

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Ru and RuO2 gate electrodes for advanced CMOS technology

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MOCVD for complex multicomponent thin films—a leading edge technology for next generation devices

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