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Article cité :

Comparative study of atomic layer deposition and low-pressure MOCVD of copper sulfide thin films

B. Meester, L. Reijnen, A. Goossens, J. Schoonman

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-1147-Pr3-1152

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20013144

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Citations de cet article :

Advances in Atomic Layer Deposition of Metal Sulfides: From a Precursors Perspective

Syed Jazib Abbas Zaidi, Muhammad Abdul Basit and Tae Joo Park
Chemistry of Materials 34 (16) 7106 (2022)
https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.2c00954

The atomic layer deposition (ALD) synthesis of copper-tin sulfide thin films using low-cost precursors

Marcin Witkowski, Zbigniew Starowicz, Adam Zięba, et al.
Nanotechnology 33 (50) 505603 (2022)
https://doi.org/10.1088/1361-6528/ac9065

Crystallinity of inorganic films grown by atomic layer deposition: Overview and general trends

Ville Miikkulainen, Markku Leskelä, Mikko Ritala and Riikka L. Puurunen
Journal of Applied Physics 113 (2) (2013)
https://doi.org/10.1063/1.4757907