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Article cité :

Atomic layer deposition of Cu_xS

L. Reijnen, B. Meester, A. Goossens, J. Schoonman

J. Phys. IV France, 11 PR3 (2001) Pr3-1103-Pr3-1107

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20013138

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Citations de cet article :

The atomic layer deposition (ALD) synthesis of copper-tin sulfide thin films using low-cost precursors

Marcin Witkowski, Zbigniew Starowicz, Adam Zięba, et al.
Nanotechnology 33 (50) 505603 (2022)
https://doi.org/10.1088/1361-6528/ac9065

Crystallinity of inorganic films grown by atomic layer deposition: Overview and general trends

Ville Miikkulainen, Markku Leskelä, Mikko Ritala and Riikka L. Puurunen
Journal of Applied Physics 113 (2) (2013)
https://doi.org/10.1063/1.4757907

Surface chemistry of atomic layer deposition: A case study for the trimethylaluminum/water process

Riikka L. Puurunen
Journal of Applied Physics 97 (12) 121301 (2005)
https://doi.org/10.1063/1.1940727