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Article cité :

Deposition of metastable Ti_(1-x)Al_xN films by plasma-enhanced CVD

R. Prange, D. Neuschütz

J. Phys. IV France, 09 PR8 (1999) Pr8-811-Pr8-818

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:19998103

PDF (1.623 MB)

Citations de cet article :

Correlation between plasma conditions and properties of (Ti,Al)N coatings deposited by PECVD

O. Kyrylov, R. Cremer, D. Neuschütz and R. Prange
Surface and Coatings Technology 151-152 359 (2002)
https://doi.org/10.1016/S0257-8972(01)01653-X

Plasma-enhanced CVD of (Ti,Al)N films from chloridic precursors in a DC glow discharge

R Prange, R Cremer and D Neuschütz
Surface and Coatings Technology 133-134 208 (2000)
https://doi.org/10.1016/S0257-8972(00)00941-5

Scattering of low-energy electrons by TiCl4, GeCl4, SiCl4and CCl4: a comparison of elastic cross sections

David L Azevedo, Márcio H F Bettega, Luiz G Ferreira and Marco A P Lima
Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics 33 (24) 5467 (2000)
https://doi.org/10.1088/0953-4075/33/24/301