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Article cité :

Physical and tribological properties of a-Si_1-xC_x : H coatings prepared by r.f. plama-assisted chemical vapour deposition

J. SMEETS, J. MENEVE, R. JACOBS, L. EERSELS, E. DEKEMPENEER

J. Phys. IV France, 03 C3 (1993) C3-503-C3-510

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1993370

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Citations de cet article :

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Ion bombardment and temperature effects on the microstructure of RF plasma chemical vapor-deposited SiC:H

L. Thomas, M. Ducarroir, R. Hillel and R. Berjoan
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Microwave plasma chemical vapour deposition of tetramethylsilane: correlations between optical emission spectroscopy and film characteristics

L. Thomas, L. Maillé, J.M. Badie and M. Ducarroir
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