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On the optical constants of amorphous GexSe1−x thin films of non-uniform thickness prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition

E Márquez, P Nagels, J.M González-Leal, et al.
Vacuum 52 (1-2) 55 (1999)
https://doi.org/10.1016/S0042-207X(98)00233-4

Plasma-enhanced chemical vapor deposition and structural characterization of amorphous chalcogenide films

P. Nagels
Semiconductors 32 (8) 855 (1998)
https://doi.org/10.1134/1.1187472

Comparison between electrical properties and electronic structure of variously-prepared germanium selenide films

G.J. Adriaenssens, A. Gheorghiu, C. Sénémaud, et al.
Journal of Non-Crystalline Solids 198-200 675 (1996)
https://doi.org/10.1016/0022-3093(96)00003-8