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Article cité :

Elaboration of in situ phosphorus doped polysilicon films under LPCVD conditions : process modelling and characterization

A. TOUNSI, E. SCHEID, C. AZZARO, P. DUVERNEUIL, J.P. COUDERC

J. Phys. IV France, 03 C3 (1993) C3-123-C3-130

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1993315

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Citations de cet article :

TOPCon – Technology options for cost efficient industrial manufacturing

Bishal Kafle, Baljeet Singh Goraya, Sebastian Mack, et al.
Solar Energy Materials and Solar Cells 227 111100 (2021)
https://doi.org/10.1016/j.solmat.2021.111100