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Article cité :

VOLTAGE CONTRAST

P. GIRARD

J. Phys. IV France, 01 C6 (1991) C6-259-C6-270

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:1991640

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Citations de cet article :

Tantalum's role in the microstructure and its influence on corrosive behavior in Co-Cr-Ta alloy

Beatriz da Silva Batista, Samuel Filgueiras Rodrigues, Jorge Luiz Cardoso, Maria Veronica Goncalves Rodrigues, Alan Silva de Menezes, Ralph Santos-Oliveira, Luzeli Moreira da Silva and Luciana Magalhães Rebêlo Alencar
Journal of Alloys and Compounds 1010 177216 (2025)
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Localized Electric Field Mapping in Planar Semiconductor Structures

Pavlos Andrikopoulos, Thomas D. Boone and Nancy M. Haegel
IEEE Transactions on Electron Devices 55 (6) 1529 (2008)
https://doi.org/10.1109/TED.2008.920971

Imaging of ferroelectric films under an applied electric field by scanning electron microscopy

U. Lev and E. Zolotoyabko
Journal of Applied Physics 99 (4) 044106 (2006)
https://doi.org/10.1063/1.2173679