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Area selective CVD of metallic films from molybdenum, iron, and ruthenium carbonyl precursors: Use of ammonia to inhibit nucleation on oxide surfaces
Elham Mohimi, Zhejun V. Zhang, Sumeng Liu, et al. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 36(4) (2018) https://doi.org/10.1116/1.5023236
Formation of MoSi2 by rapid thermal annealing in vacuum of CVD – Mo films on silicon substrate