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CVD CARBONYL THIN FILMS OF TUNGSTEN AND MOLYBDENUM AND THEIR SILICIDES - A GOOD ALTERNATIVE TO CVD FLUORIDE TUNGSTEN TECHNOLOGY

K.A. GESHEVA, V. ABROSIMOVA, G.D. BESHKOV

J. Phys. IV France, 02 C2 (1991) C2-865-C2-871

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:19912103

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Citations de cet article :

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Microstructure and Mechanical Properties of Annealed WC/C PECVD Coatings Deposited Using Hexacarbonyl of W with Different Gases

Peter Horňák, Daniel Kottfer, Karol Kyzioł, et al.
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Area selective CVD of metallic films from molybdenum, iron, and ruthenium carbonyl precursors: Use of ammonia to inhibit nucleation on oxide surfaces

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Formation of MoSi2 by rapid thermal annealing in vacuum of CVD – Mo films on silicon substrate

K.A Gesheva, T Ivanova, D Gogova and G Beshkov
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Preparation of WSI2 by rapid thermal annealing of CVD thin films of tungsten

KA Gesheva, DS Gogova, GD Beshkov and V Popov
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