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Dépôt chimique CVD de silicium dopé in situ au phosphore. Partie 2: Analyse théorique et modélisation

Adnen Tounsi, Patrick Duverneuil, Jean‐Pierre Couderc and Emmanuel Scheid
The Canadian Journal of Chemical Engineering 74 (6) 950 (1996)
https://doi.org/10.1002/cjce.5450740619