Numéro
J. Phys. IV France
Volume 119, November 2004
Page(s) 173 - 174
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:2004119043


J. Phys. IV France 119 (2004) 173-174

DOI: 10.1051/jp4:2004119043

Contrôle de l'indice de réfraction dans des matériaux photopolymérisables pour la formation de guides (2 $\,+\,$1) D

K. D. Dorkenoo1, H. Bulou1, H. Leblond2 and A. Fort1

1  IPCMS, CNRS UMR 7504 23 rue du Loess, 67037 Strasbourg Cedex, France
2  POMA, CNRS UMR 6136 2 Boulevard Lavoisier, 49045 Angers Cedex, France


Abstract
La possibilité d'inscrire des circuits optiques dans des matériaux photopolymérisables offre des perspectives d'applications multiples très stimulantes. C'est ainsi que la propriété particulière "d'auto-développement" des guides optiques créés dans ces matériaux permet de réaliser des structures guidantes sans recours à des techniques sophistiquées comme la microlithographie. Cependant, l'absence de connaissance de l'évolution de la valeur de l'indice de réfraction du système en cours de polymérisation constituait jusqu'alors un obstacle de taille dans la maîtrise de l'élaboration de guides photoinduits. Nous avons résolu ce problème et nous pouvons à présent modéliser numériquement l'évolution des guides en fonction de l'intensité lumineuse excitatrice et réaliser expérimentalement des guides permanents dans des composés photopolymérisables.



© EDP Sciences 2004