Génération d'un faisceau à profil photométrique homogène dans une cavité laser à miroir nanostructuré

D. Sabourdy; A. Desfarges-Berthelemot; V. Kermène; M. Vampouille; C. Froehly; S. Monneret; D. Ferry; C. Ecoffet; C. Triger; D. Lougnot

doi:doi:10.1051/jp4:20020178

Numéro		J. Phys. IV France Volume 12, Numéro 5, June 2002


Page(s)		323 - 325
DOI		https://doi.org/10.1051/jp4:20020178

J. Phys. IV France 12 (2002) Pr5-323
DOI: 10.1051/jp4:20020178

Génération d'un faisceau à profil photométrique homogène dans une cavité laser à miroir nanostructuré

D. Sabourdy¹, A. Desfarges-Berthelemot¹, V. Kermène¹, M. Vampouille¹, C. Froehly¹, S. Monneret², D. Ferry³, C. Ecoffet³, C. Triger³ and D. Lougnot³

¹ IRCOM, UMR 6615, 123 avenue Albert Thomas, 87060 Limoges cedex, France
² Département de Chimie Physique des Réactions, ENSIC-INPL, UMR 7630, 1 rue Grandville, BP. 451, 54001 Nancy cedex, France
³ Laboratoire de Photochimie Générale, ENSC, UNMR 7525, 3 rue A. Wemer, 68093 Mulhouse cedex, France

Résumé
L'étude concerne la réalisation d'un démonstrateur particulier devant mettre en évidence l'intérêt de composants diffractifs réalisés par stéréolithographie par ondes évanescentes. II s'agit de concevoir un laser UV à excimères émettant un faisceau cohérent de fluence homogène sur une section carrée, l'un des miroirs conventionnels de la cavité étant remplacé par un composant diffractif réfléchissant, nanostructuré suivant son épaisseur et microstructuré suivant ses deux autres dimensions.