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Numéro
J. Phys. IV France
Volume 138, December 2006
Page(s) 191 - 201
DOI http://dx.doi.org/10.1051/jp4:2006138022
Publié en ligne 6 janvier 2007
8e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents
R. Moncorgé et J.L. Doualan
J. Phys. IV France 138 (2006) 191-201

DOI: 10.1051/jp4:2006138022

Mécanismes d'éjection de particules par laser impulsionnel

D. Grojo1, A. Cros1, Ph. Delaporte1, M. Sentis1, H. Dubus2 and R. Mionetto2

1  LP3 - UMR 6182 CNRS, Université de la Méditerranée, Campus de Luminy, Case 917, 13288 Marseille Cedex 9, France
2  STMicroelectronics Rousset, 13106 Rousset, France


(Publié en ligne le 6 janvier 2007)

Résumé
L'enlèvement de particules de dimensions nanométriques est l'un des principaux challenges à relever pour atteindre les futurs objectifs de l'industrie microélectronique. Les procédés laser présentent, dans certains cas, des performances très intéressantes, mais les mécanismes d'éjection des particules polluant la surface restent cependant fort mal connus. L'étude de la dynamique d'éjection des particules, par une technique optique, a mis en évidence l'existence de deux mécanismes dont l'importance relative dépend de la fluence d'irradiation. A forte fluence l'ablation locale du substrat sous la particule prédomine, alors que pour les fluences plus faibles le mécanisme semble être lié à l'enlèvement de l'humidité résiduelle à l'interface particule - substrat. Contrairement aux modèles précédemment proposés, la contribution de la force d'inertie s'exerçant sur la particule lors de l'expansion thermique rapide des matériaux est négligeable.



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