Numéro
J. Phys. IV France
Volume 02, Numéro C2, Septembre 1991
Proceedings of the Eighth European Conference on Chemical Vapour Deposition / Actes de la 8ème Confèrence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse
Page(s) C2-327 - C2-334
DOI http://dx.doi.org/10.1051/jp4:1991240
Proceedings of the Eighth European Conference on Chemical Vapour Deposition / Actes de la 8ème Confèrence Européenne sur les Dépôts Chimiques en Phase Gazeuse

J. Phys. IV France 02 (1991) C2-327-C2-334

DOI: 10.1051/jp4:1991240

COMPARATIVE STUDY OF GexCx-1 FILMS PREPARED BY MOCVD FROM TETRAETHYLGERMANIUM AND TETRAVINYLGERMANIUM

M'B. AMJOUD1, A. REYNES1, R. MORANCHO1, P. MAZEROLLES2 and R. CARLES3

1  Laboratoire des Matériaux (URA 445 CNRS), Institut National Polytechnique de Toulouse (E.N.S.C.T), 118 route de Narbonne, F-31077 Toulouse cedex, France
2  Laboratoire des Organométalliques (URA 477 CNRS), Université Paul Sabatier, 118 route de Narbonne, F-31062 Toulouse cedex, France
3  Laboratoire de Physique des Solides (URA 077 CNRS), Université Paul Sabatier, 118 route de Narbonne, F-31062 Toulouse cedex, France


Abstract
The coatings coming from the thermal decomposition of two organogermanium compounds GeR4 where R is either .C2H5 or .CH=CH2 have been investigated by various technics. According to the starting molecule and the experimental conditions, the films diplay different features. For example the pyrolysis of Ge (CH=CH2)4 leads to the formation of a Ge-C, C-C and Ge-Ge bonds while the pyrolysis of Ge (C2H5)4 gives Ge-Ge and few C-C bonds.



© EDP Sciences 1991