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Évaluation des domaines d'épaisseur de films minces mesurables par fluorescence X en excitation monochromatique

Résumé
Dans certains cas favorables la fluorescence des rayons X peut être utilisée comme méthode de caractérisation de surface, principalement pour la mesure des épaisseurs de films minces de quelques dixièmes de nanomètres. Nous avons ainsi montré à l'aide de quelques exemples d'analyse, utilisant une excitation quasi-monochromatique, les limites de détection minimales et maximales des mesures d'épaisseurs. Un cas pratique de détermination de l'épaisseur minimale d'or sur un substrat de silicium a conduit à une limite de détection de 0,12 nm.

Abstract
In some favourable cases, X-ray fluorescence can be used as surface characterization method, in particular for thickness measurement of thin films in the range down to a few 0.1 nanometers. Using a quasi-monochromatic excitation, we show the lower and upper detection limits. We present the results obtained for a gold layer on a silicium substrate.